装置設計製作例:横型拡散/CVD装置
概略装置説明及び仕様
外観 | |
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炉体寸法 | H1985×D850×W3225(フロントリアスカベン含む) |
クリーンベンチ | H2040×D940×W3100 |
ガスボックス | H1890×D730×W650 |
炉体 | |
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ヒーター | 6インチ炉専用5ゾーンヒーター |
最高使用温度 | 1250℃ |
プロセス | ||
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生成膜 | WET酸化(PYRO) | H2ANNEAL |
反応ガス | O2、H2 | H2 |
処理枚数 | プロセスウェーハ150枚/バッチ | |
処理温度 | 900℃~1150℃ | 400℃~600℃ |
面内均一性 | ±3% | ー |
常用温度 | 800℃ | 400℃ |
※この装置は過去実績の一例です。
当社は装置のカスタムメーカーとして、お客様の要望に合わせた装置を設計・製作致します。是非ご相談ください。
装置のカスタムメーカーブランド「O-TEC」
当社は装置のカスタムメーカーとしてO-TECブランドを展開しております。
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カスタムメーカーとは?
装置メーカーには同じ仕様で量産品を製造する量産メーカーと、お客様の要求仕様に適合させた装置を設計・製作するカスタムメーカーがあります。
当社はカスタムメーカーとして、お客様の要求仕様に応える装置づくりを行っています。
- 対応業界例
- 半導体、FPD、電子部品関連、ガラス加工、自動車関連、医療、薬品、食品、バイオ、環境分野、ソーラー、 燃料電池等、精密性・安全性を求められる様々な用途に装置を製作可能です。
O-TECの得意分野
当社の装置製作技術の得意分野は、長年蓄積した「高圧ガス関連技術」「温度制御技術」そして、半導体業界で培った「洗浄」「搬送」技術です
装置製作例紹介
温度制御技術
拡散/CVD装置関連
超高圧関連
環境試験装置
WET装置
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