装置設計製作例:縦型拡散炉(実験炉)
概略装置説明及び仕様
外観 | |
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炉体寸法 | H2250×W600×D1500 |
炉体重量 | 700kg |
炉体 | |
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ヒーター | 4インチ炉専用ヒーター |
最高使用温度 | 1250℃ |
プロセス | |
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生成膜 | DRY酸化 |
反応ガス | O2 |
生成温度 | 900℃~1150℃ |
面内均一性 | ±2.5% |
常用温度 | 800℃ |
※この装置は過去実績の一例です。
当社は装置のカスタムメーカーとして、お客様の要望に合わせた装置を設計・製作致します。是非ご相談ください。
装置のカスタムメーカーブランド「O-TEC」
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装置メーカーには同じ仕様で量産品を製造する量産メーカーと、お客様の要求仕様に適合させた装置を設計・製作するカスタムメーカーがあります。
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- 半導体、FPD、電子部品関連、ガラス加工、自動車関連、医療、薬品、食品、バイオ、環境分野、ソーラー、 燃料電池等、精密性・安全性を求められる様々な用途に装置を製作可能です。
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当社の装置製作技術の得意分野は、長年蓄積した「高圧ガス関連技術」「温度制御技術」そして、半導体業界で培った「洗浄」「搬送」技術です
装置製作例紹介
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拡散/CVD装置関連
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