概略装置説明及び仕様

外観 | |
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炉体寸法 | H3200×W1000×D1900 |
炉体重量 | 1500kg |
炉体 | |
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ヒーター | 4ゾーンヒーター |
最高使用温度 | 1250℃ |
搬送系 | |
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キャリア搬送 | ターンテーブル方式 |
ウェーハ搬送 | ウェーハピッチ可変式5枚一括搬送 |
ウェーハ搬送方式 | すくい上げ方式 |
プロセス | |
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生成膜 | DRY酸化/WET酸化(PYRO) |
反応ガス | O2、H2 |
処理枚数 | プロセスウェーハ150枚/バッチ |
生成温度 | 800℃~1200℃ |
面内均一性 | ±3% |
常用温度 | 800℃ |
この装置は過去実績の一例です。
当社は装置のカスタムメーカーとして、お客様の要望に合わせた装置を設計・製作致します。是非ご相談ください。
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